《圖解真空技術入門》
本書特色
　　真空技術早在20世紀初就出現，直到20世紀後半才迅速被廣泛應用。本書從初階的何謂真空、真空中的物理現象、真空的產生一直到真空的量測、真空系統的組成元件、側漏技術、超高真空與潔淨真空、真空工業的發展，每一個單元都詳盡說明。實屬史上第一本針對初次接觸真空技術的讀者做全面性解說的書籍。
　　本書並且是因應當前大眾需要所特別撰寫，內容盡量解說最基本的入門知識，並搭配圖解。因此，即使是非常重要的專業知識也大膽捨棄，相信本書能補足真空技術入門書籍不足的缺憾。讀者可將此書當作學習更專業知識前的跳板，掌握基本概要，將讓您更得心應手。

小宮 宗治　Soji Komiya

　　1948年 東京工業大學附屬工業專門部金屬工業科畢業

　　1959年 就職於日本真空技術株式會社

　　1977年 獲得東京工業大學工學博士學位

　　1979年 被任命為日本真空技術株式會社董事(director)

　　1986年 就職於株式會社Ulvac Cooperate Center董事(director)

　　1990年 就職於株式會社築波研究聯合中心(consortium) 常務董事(director)

　　1995年 就職於株式會社築波研究聯合中心(consortium) 專務理事

　　 1998年 由株式會社築波研究聯合中心(consortium) 專務理事退休

譯者介紹 羅丞曜

　　日本東京大學畢業。電氣工學博士。現任國立清華大學奈米工程與微系統研究所 助理教授。近期研究興趣為半導體材料、光學微機電系統、印刷式生產技術及軟性電子元件。截至目前為止個人著有十八篇科技論文並擁有六件半導體元件製程國際專利。自2000年起持續從事英文及日文科技圖書及論文的翻譯、校稿及潤稿工作。目前譯有《圖解光與雷射應用》(世茂出版)。