一般分類: 政府出版 > 文化藝術
     
    中華民國第二十屆國際版畫雙年展
    編/著者: 黃舒屏主編
    出版日期:2022-08-01
    ISBN:9789865326197
    參考分類(CAT):文化藝術
    參考分類(CIP): 版畫

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      | 內容簡介 |
    「中華民國第二十屆國際版畫雙年展」由文化部指導,國立臺灣美術館主辦,歷經 40 年間不懈耕耘,宗旨為提倡版畫藝術創作、促進國際文化交流、共同豐富版畫藝術未來的多元發展,是現存歷史最悠久的國際版畫雙年展之一,迄今已是第 20 屆。
    本屆籌備期間遭逢全球共同面對 COVID-19 疫情的衝擊,故而開啟了嶄新的趨勢與變革,諸如首次採取線上初審審查、入圍作品的運費由主辦單位負擔等,在突破疫情影響的轉圜方案下,也有利提升參賽者的參與便利性及順應國際趨勢,開展新的篇章。
    本屆共收到 79 國 1011 件作品報名參,歷經初審評審團選出 187 件入圍作品;再交由複審評審團,由實際到館的入圍作品當中,選出 50 國 180 件展出作品,其中亦包含金牌獎、銀牌獎、銅牌獎、評審團特別獎 2 名、優選獎 5 名、佳作 5 名等 15 件得獎作品,將於今年 8 月至 11 月於國立臺灣美術館展出。
    評審委員們皆對本屆參賽作品的數量眾多、質量優異、風格多樣、技法精煉創新等表示高度肯定;而對疫情影響的反思與關注,也成為契合時代氛圍的創作議題,綜觀本屆作品的色調及主題,彷彿也是創作者在呼應疫情時代恐慌心境下的借鑒交融,凝鍊昇華出沉穩、安定的創作量能之撫慰式傳達。
    本屆得獎者,除了臺灣的藝術家外,亦有來自日本、中國等亞洲國家者;來自法國、烏克蘭、英國、波蘭、德國、西班牙等歐洲國家者;以及來自哥倫比亞、古巴等中南美洲國家者,精彩呈現不同文化底蘊下,多元的觀點演繹與藝術語彙傳達。此外,本屆得獎者中,不乏 20 多歲年輕的藝術家,銘刻新世代創作者的創作脈絡;有趣的是,兩位不約而同地關注了衰敗、時間荏苒流逝的主題,詮釋廢墟美學視角下的辯證。
    本屆展出作品趨向大尺幅,顯示創作者在主辦單位規定的範圍內盡情發揮至極致的野心,而創作技法涵蓋傳統技法的凸版、凹版、平版、孔版,亦有部份採取數位版及併用版等時代潮流產物下的創新技法,皆可一窺版畫藝術創作的蓬勃動能及在傳承流變下的豐富樣貌。而作品創作議題涵蓋自我內心世界的深度探索與關照;或對所處時空的叩問與探詢;或純粹淬鍊於形式上的形象美學,那些多元並蓄的洞察或辯證姿態,皆在創作美學的轉譯下,重塑為美學維度下的光影與色彩。
    最後,感謝本屆諮詢委員及初審評審團、複審評審團,每位委員挹注的辛勞。其中包括:劉錫權、薛保瑕、呂燕卿、楊明迭、萊絲莉·杜斯貝瑞(Lesley Duxbury)、倪朝龍、謝里法、羅平和、徐文瑞、張家瑀、陳曉朋、高實珩。也衷心感謝來自世界各地參賽者對本展的支持及參與,以及對所有得獎藝術
    家表示祝賀。期許未來,本展能持續耕耘版畫藝術交流與對話的平臺之角色,共同見證與豐富版畫創作領域的多元樣貌。