這些年來光電、生物科技迅速掘起加速更新，半導體也推陳出新挑戰極限，而這些改變則是需要嚴格的生產廠房及研發環境，但在目前市面是並無以有系統介紹建立高科技廠房的專業案頭書，有鑑於此，作者將二十多年來在高科技產業的執行及顧問經驗，將所有的廠務系統作全面有秩序的整理編寫。本書共分為十三大章，內容涵蓋了潔淨室和廠務之八大系統，除此之外有風險管理和建廠工程之規劃內容和執行原則介紹，本書的內容偏重實務之應用面和執行面。本書適合科大電機系、能源與冷凍空調工程系「半導體廠務」、「半導體與光電廠務設施」課程使用。

第1章　潔淨室與空調
1-1　前　言
1-2　潔淨室定義與發展史
1-3　潔淨室標準與規格
1-4　潔淨室適用範圍
1-5　潔淨室分類
1-6　潔淨空氣流分析
1-7　不同障礙物對氣流之影響
1-8　潔淨室設計規劃
1-9　潔淨室震動、靜電、噪音、電磁干擾之防制
1-10　潔淨室空調設計
1-11　潔淨室建造、組裝材及程序
1-12　潔淨室測試與驗收
1-13　潔淨室運轉與維護管理
1-14　潔淨室自動化系統
1-15　潔淨室建造成本分析

第2章　超純水處理
2-1　前　言
2-1-1　純水之功能
2-1-2　水中之污染物
2-1-3　水中不純物之測定分析
2-2　超純水之製造
2-2-1　超純水之規範
2-2-2　純水製造類別分析
2-2-3　純水製造用膜材質比較
2-3　高科技產業用超純水
2-3-1　高科技廠純水製造流程
2-3-2　各製程模組件功能分析
2-3-3　超純水管路設計
2-3-4　超純水運轉、故障排除與品質監控

第3章　中央式化學品供應系統
3-1　前　言
3-2　化學品供應需求要素
3-3　化學品供應種類
3-4　化學品供應系統之架構與作用原理
3-5　化學品配管與安全考量
3-6　結　論

第4章　中央式氣體供應系統
4-1　前　言
4-2　光電廠和半導體廠所使用之氣體
4-3　氣體的規範
4-4　中央式氣體供應架構
4-5　供氣系統的安全技術
4-6　氣體的供應輸送
4-7　氣體供應的規劃與設計

第5章　廢水處理及回收
5-1　前　言
5-2　　排放標準
5-3　廢水種類
5-4　廢水處理系統介紹
5-5　廢水處理之規劃設計運轉

第6章　電力供應與中央監控
6-1　前　言
6-2　電力供應系統組成
6-3　受電供電設備
6-4　建廠電力系統規劃
6-5　電力供應系統設備運轉管理
6-6　廠務中央監控系統

第7章　廠務設施架構
7-1　前　言
7-2　冰水及冷凝冷卻水
7-3　熱水、蒸氣與柴油、瓦斯供應系統
7-4　製程冷卻水
7-5　乾燥壓縮空氣／呼吸用空氣
7-6　製程真空和清潔用真空系統

第8章　環境保護與工業安全維護
8-1　前　言
8-2　環保與工安之功能目的
8-3　半導體與光電廠廢氣處理規劃
8-4　廢氣種類與排放標準
8-5　廢氣處理方式
8-6　廢棄物處理與減廢
8-7　有關環保相關申請文件及流程
8-8　工業安全與衛生維護

第9章　管路設計及空間佈置規劃
9-1　前　言
9-2　管路材質選用
9-3　氣體管路配管
9-4　管路標示
9-5　管路設計規劃
9-6　管路之空間佈置

第10章 建廠設計評估及施工監造管理
10-1　前　言
10-2　建廠工程規劃
10-3　建廠工程設計及施工執行流程

第11章 風險評估管理計劃
11-1　前　言
11-2　風險管理四要素
11-3　風險評估程序
11-4　損害防阻執行
11-5　災害復原計畫

第12章 高科技廠建廠及運轉成本分析
12-1　前　言
12-2　建廠時程
12-3　建廠成本分析
12-4　廠務系統用量分析

第13章 結　語
附　 　錄 簡稱字彙