一般分類: 教科專業 > 應用科學 > 工程學總論 
     
    專利權範圍之解釋與侵害
    編/著者: 劉國鑽
    出版社:元照
    出版日期:2011-09-30
    ISBN:9789862551653
    參考分類(CAT):工程學總論
    參考分類(CIP): 工程學總論

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      | 內容簡介 |
    內容簡介
      本書收集專利權範圍之解釋與侵害相關訴訟實務案例,予以歸納、分類、整理編輯而成。選入本書之案例超過200則,其中超過三分之二為美國訴訟案例,其餘為日本訴訟案例及數件歐洲專利局訴願決定。  本書共有十二章,先將美國早期案例依發明範疇分成裝置專利、製造程序專利、合成物專利與製品專利,分述於第二至四章,此一階段著重在權利範圍建構與侵害判斷之基本理論的形成。美國現代專利侵害有字義侵害與均等侵害,分述於第五、七章,第六章專論常見的手段功能用語,這三章著重在現代所使用的侵害判斷原則。第九章為日本專利侵害理論,以實務案例說明日本與美國差異之處。特殊產業領域之電腦軟體發明與用途發明,分述於第十、十一章,最後第十二章以設計專利為主題,這三章均包含美國與日本在該領域的權利範圍解釋與侵害判斷原則之發展。
    作者介紹
    作者簡介劉國讚  【現職】   臺灣科技大學專利研究所副教授  【經歷】   1992年進入經濟部中央標準局(智慧財產局之前身)專利處服務,從事專利審查工作,歷任技正、專利審查官兼科長、專利高級審查官、副組長、組長。  曾在美國、日本、德國參加專利實務進修課程並做相關研究,並擔任許多訓練機構辦理專利實務相關課程之講師。  【學歷】   臺灣科技大學工學博士  政治大學法律學碩士  【著作】   著有「專利實務論」專書,期刊論文著作多發表於智慧財產權月刊、專利師季刊。
    推薦序  回顧我國專利制度的建立,已有一甲子。近年來,產業界將研發成果大量申請專利,各大學及研究機構更為展現其研發績效,亦將申請專利列為重要指標,致使專利的保護與運用在我國快速蓬勃發展。  隨著高科技產業持續快速發展,產業界及學研機構累積的專利數量大幅成長,讓投入專利領域的工作者越來越多,包括政府部門的專利審查者,專利事務所或企業、研發機構內的專利師、專利代理人、專利工程師等。我國對專利的運用亦逐漸從量的增加轉變到質的提升。在質的提升過程中,更需要優秀的專利人才,方能讓取得專利權的發明有完善的保護範圍,也才能創造高度的經濟價值。  臺灣科技大學深感產業界需求殷切,著眼未來趨勢,率先成立國內第一所專利研究所,以培養一流專利人才為目標。專利人才所需的職能涉及工程技術、法律、管理等領域,不論是課程規劃、教材設計、研究方向、產學合作等,對本校都是創舉。  專利工作者所需的職能中,以專利權範圍的解析最為根本。過去我國在此一領域的研究,多為訴訟個案評析或單一主題之探討,常令人難窺其全貌。今本校專利研究所劉國讚老師,收集大量美國及日本之判例、學說,經過仔細研讀與分析,完成「專利權範圍之解釋與侵害」一書。本書不只從機器專利、方法專利、物質專利的特點歸納整理,也從電腦軟體發明、醫藥發明、工業設計等不同產業特性進行剖析,甚至涵蓋專利字義侵害、均等侵害基礎理論的最新判例,實為難得一見的著作。  本人衷心期待本書的完成,不只有助於專利研究所之教學研究,也能提供專利實務界參考使用,讓我國專利產業水準更上層樓。國立臺灣科技大學 校長陳希舜2011年8月16日
    目次
    第一章 緒 論 第一節 從著名的發明被模仿事件談起╱1 第二節 專利說明書與先前技術╱10 第三節 專利制度的調和化╱20 第四節 專利權效力與侵害行為╱25 第五節 專利侵害訴訟與專利法院╱34 第六節 專利無效制度╱49 第七節 研究專利權範圍解釋的意義與方法╱59 問題與討論╱63第二章 裝置專利侵害判斷基本原則 第一節 導 論╱65 第二節 裝置專利所保護的技術╱71 第三節 裝置專利的均等侵害╱74 第四節 均等射程的差異╱81 第五節 權利範圍的限縮解釋╱98 第六節 利用發明的侵害╱107 第七節 結論──對我國侵害判斷原則之影響╱113 問題與討論╱118第三章 製造程序專利 第一節 導 論╱121 第二節 機器所實現的製程專利╱124 第三節 機器所執行的程序專利與科學原理╱130 第四節 製程專利的有用性╱140 第五節 製程專利的侵害判斷原則╱147 第六節 單純製程專利╱159 第七節 結論──我國對製程發明之保護╱162 問題與討論╱165第四章 合成物專利與製品專利 第一節 導 論╱167 第二節 合成物的專利說明書揭露╱170 第三節 物之處理製程與製品╱172 第四節 獨立的合成物專利╱178 第五節 以材料及功能界定的物質發明╱182 第六節 產品專利與權利耗盡╱187 第七節 合成物專利的均等侵害╱195 第八節 製程界定產物請求項之解釋╱198 第九節 結論──我國對物質發明的保護╱211 問題與討論╱214第五章 字義侵害解釋論 第一節 導 論╱215 第二節 申請專利範圍請求項基本語法╱220 第三節 請求項差異原則╱226 第四節 請求項普通及習慣的意義╱236 第五節 申請專利範圍與實施例╱240 第六節 參考說明書及檔案歷史解釋請求項用語╱247 第七節 內部證據與外部證據╱254 第八節 現代申請專利範圍解釋方法╱261 第九節 我國申請專利範圍解釋方法╱268 問題與討論╱275第六章 手段功能用語 第一節 導 論╱277 第二節 判斷是否為手段功能用語請求項╱284 第三節 步驟功能用語之語法與解釋╱306 第四節 手段(步驟)功能用語請求項之明確性╱313 第五節 手段功能用語與均等論╱328 第六節 我國有關功能請求項之解釋╱337 問題與討論╱341第七章 均等侵害論與其限制 第一節 導 論╱343 第二節 CAFC對均等侵害之運用╱345 第三節 最高法院對均等論之闡釋╱358 第四節 貢獻原則╱364 第五節 禁反言原則╱372 第六節 先前技術阻卻原則╱382 第七節 逆均等論╱389 第八節 我國均等侵害與其限制╱394 問題與討論╱399第八章 間接侵權 第一節 導 論╱401 第二節 幫助侵權╱407 第三節 修理與重建之判斷╱416 第四節 教唆侵權╱428 第五節 教唆侵權之主觀要件標準╱435 第六節 境外侵權╱439 第七節 結論──美國案例法對我國之啟示╱444 問題與討論╱449第九章 日本專利侵害理論 第一節 導 論╱451 第二節 均等侵害之領導判例╱455 第三節 均等侵害之發展╱462 第四節 功能性請求項之解釋╱486 第五節 間接侵權之學說與判例╱490 第六節 日本侵害理論對我國的影響╱498 問題與討論╱501第十章 電腦軟體關聯發明 第一節 導 論╱503 第一部分 日本電腦軟體關聯發明╱506 第二節 方法請求項與裝置請求項╱506 第三節 電腦可讀取記錄媒體請求項與電腦程式請求項╱524 第四節 網路型軟體相關發明╱527 第二部分 美國軟體專利侵害事件╱530 第五節 軟體專利權範圍解釋╱530 第六節 網路型軟體專利之禁制令╱547 第七節 軟體專利之境外侵權╱552 第八節 軟體商業方法專利╱559 第九節 我國電腦軟體關聯發明之侵害╱567 問題與討論╱569第十一章 用途發明 第一節 導 論╱571 第二節 馬庫西型請求項╱578 第三節 醫療方法的可專利性╱581 第四節 美國之醫藥用途發明╱591 第五節 日本醫藥用途發明之基本申請專利範圍形式╱598 第六節 瑞士型請求項╱606 第七節 我國醫藥用途發明╱612 問題與討論╱614第十二章 設計專利 第一節 導 論╱617 第一部分 日本意匠之權利範圍解釋與侵害╱619 第二節 判斷意匠近似的學說╱619 第三節 意匠之要部與近似判斷╱626 第四節 利用意匠╱641 第五節 特殊意匠╱644 第二部分 美國設計專利之權利範圍解釋與侵害╱652 第六節 侵害判斷原則之建立╱652 第七節 參考先前技藝的普通觀察者╱660 第八節 當代侵害判斷原則╱666 第九節 我國設計專利侵害判斷原則╱672 問題與討論╱676參考文獻╱677判決索引╱683