一般分類: 教科專業 > 應用科學 > 電機工程 
     
    OLED有機發光二極體顯示器技術(96/6)
    編/著者: 陳志強
    出版社:全華
    出版日期:2007-05-31
    ISBN:9789572156988
    參考分類(CAT):電機工程
    參考分類(CIP): 電機工程

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      | 內容簡介 |
    內容簡介
     有機發光二極體顯示器具備自發光特性、敏捷的反應速度、寬廣的可視範圍、低的耗電量、清晰的對比、面板厚度薄、重量輕並具備可撓曲等優勢,被喻為完美的顯示器。本書藉由淺顯易懂的辭句將有機發光二極體顯示器之開發歷史、發光原理、面板設計與未來趨勢呈現給讀者。內容包括:有機發光二極體應用與規格、有機發光二極體顯示原理及全彩技術、被動式矩陣背板技術、主動式矩陣背板技術、有機發光二極體陽極製程、有機發光二極體陰極製程、主動式類比畫素設計、主動式數位畫素設計、有機發光二極體封裝技術、有機發光二極體技術藍圖等。本書適用於私立大學、科大電子、電機、光電系「LED製程與應用」課程。
    目次
    第1章 諸論-顯示未來 1-11.1 前言 1-11.2 平面顯示世代 1-21.3 液晶顯示器的發展與沿革 1-31.4 無機發光二極體之發展 1-91.5 小分子有機發光二極體之發展 1-91.5.1 小尺寸SMOLED的之開發 1-101.5.2 中大尺寸SMOLED的開發 1-121.6 高分子有機發光二極體之發展 1-131.7 主動式有機發光二極體的優勢 1-181.7.1 輕薄省電 1-211.7.2 反應速度 1-231.7.3 數位影像 1-24第2章 有機發光二極體應用與規格 2-12.1 前言 2-12.2 有機發光二極體應用 2-22.2.1 手持式裝置顯示器 2-32.2.2 車用顯示器 2-32.2.3 筆記型電腦顯示器 2-42.2.4 多媒體應用顯示器與監視器 2-52.2.5 航空電子顯示器 2-52.2.6 雷達顯示器 2-62.2.7 醫療用顯示器 2-72.2.8 平面電視 2-82.3 面板解析度 2-102.3.1 長寬比 2-122.3.2 CIF與QCIF 2-132.3.3 VGA與QVGA 2-142.3.4 XGA與SXGA 2-142.3.5 QUXGA與QUXGA-Wide 2-152.3.6 HDTV 2-152.4 綠色概念設計 2-182.4.1 無鉛面板 2-192.4.2 無汞面板 2-202.4.3 無鉻面板 2-202.4.4 省電設計 2-20第3章 有機發光二極體顯示原理 3-13.1 前言 3-13.2 發光二極體顯示原理 3-23.3 有機發光二極體顯示原理 3-33.3.1 三元色發光原理 3-53.3.2 白光發光原理 3-53.4 元件結構 3-63.4.1 陽極層 3-83.4.2 電洞注入層 3-93.4.3 電洞傳輸層 3-93.4.4 發光層 3-113.4.5 雙發光層 3-133.4.6 電子傳輸層 3-143.4.7 陰極層 3-153.5 發光效率 3-153.5.1 螢光發光 3-173.5.2 磷光發光 3-183.6 亮度加強 3-203.6.1 對比度 3-213.6.2 光加強結構 3-233.6.3 微透鏡陣列 3-243.6.4 透鏡製造方法 3-263.7 色彩飽和度 3-293.8 反應時間 3-333.8.1 灰階對灰階時間 3-343.8.2 影像殘留 3-36第4章 有機發光二極體全彩技術 4-14.1 前言 4-14.2 彩色化製造流程 4-24.3. 熱蒸鍍法 4-44.3.1 真空熱蒸鍍架構 4-44.3.2 點狀源與線狀源 4-74.3.3 金屬遮罩定位 4-84.3.4 金屬遮罩設計 4-104.3.5 金屬遮罩精度 4-124.3.6 遮罩清潔 4-154.4 有機氣相沈積 4-164.5 旋轉塗佈法 4-184.6 噴墨印刷法 4-204.6.1 噴墨頭設計 4-224.6.2 噴墨準確度 4-234.6.3 表面處理 4-274.7 外在媒體變換法 4-294.7.1 色轉換法 4-294.7.2 RGB彩色濾光片法 4-314.7.3 RGBW彩色濾光片法 4-334.7.4 COA架構 4-344.7.5 黑色矩陣設計 4-354.8 轉印法 4-354.8.1 雷射感熱成像 4-354.8.2 奈米壓印技術 4-36第5章 被動式矩陣背板技術 5-15.1 前言 5-15.2 被動式矩陣架構 5-15.2.1 被動式面板限制 5-35.2.2 有機發光二極體之整流比 5-65.3 被動式SMOLED製造流程 5-75.3.1 負型光阻製程 5-75.3.2 剝脫製程 5-85.3.3 整合型分離體製程 5-95.4 被動式LEP製造流程 5-115.5 被動式驅動系統 5-125.5.1 灰階顯示 5-145.5.2 預充電電路 5-175.5.3 串音 5-215.5.4 閃爍 5-215.5.5 功率消耗 5-225.6 驅動IC封裝 5-235.6-1 自動捲帶封裝 5-245.6.2 軟膜覆晶封裝 5-245.6.3 玻璃覆晶封裝 5-25第6章 主動式矩陣背板技術 6-16.1 前言 6-16.2 單晶矽電晶體 6-26.3 低溫複晶矽薄膜電晶體 6-26.3.1 線束型準分子雷射結晶 6-76.3.2 循序性側向雷射結晶 6-86.3.3 固態雷射結晶 6-106.3.4 金屬誘發結晶型 6-126.3.5 複合結晶型 6-136.4 非晶矽薄膜電晶體 6-136.4.1 光罩縮減製程 6-156.4.2 半色調型光罩 6-186.4.3 灰色調型光罩 6-196.4.4 狹縫型光罩 6-196.4.5 載子移動率 6-206.4.6 微晶矽薄膜 6-226.4.7 臨界電壓 6-246.5 有機薄膜電晶體 6-256.5.1 有機主動層 6-266.5.2 電極結構 6-306.5.3 接觸電阻 6-316.5.4 導通電阻 6-326.5.5 閘極絕緣層 6-336.5.6 複合型閘極絕緣層 6-336.5.7 絕緣層表面型態 6-346.6 畫素發光架構 6-356.6.1 下部發光型畫素 6-366.6.2 上部發光型畫素 6-386.6.3 雙面發光型畫素 6-386.7 低阻值導線 6-396.7.1 鋁金屬 6-426.7.2 銅與銀金屬 6-42第7章 有機發光二極體陽極製程 7-17.1 前言 7-17.2 陽極電極特性 7-27.3 氧化銦錫 7-57.3.1 成膜技術 7-67.3.2 冷氧化銦錫 7-97.3.3 薄膜導電性 7-107.3.4 表面粗糙度 7-117.4 氧化銦鋅 7-127.4.1 成膜技術 7-137.4.2 表面粗糙度 7-147.5 氧化鋅 7-157.5.1 成膜技術 7-157.5.2 薄膜導電性 7-167.6 堆疊型陽極 7-167.7 反射型陽極 7-177.8 微共振腔結構 7-187.8.1 金屬鏡-金屬鏡型微共振腔 7-187.8.2 金屬鏡-布拉格反射鏡型微共振腔 7-217.9 陽極表面處理 7-227.9.1 溼式與乾式處理 7-227.9.2 底層表面形態 7-257.9.3 基板平整性 7-26第8章 有機發光二極體陰極製程 8-18.1 前言 8-18.2 陰極電極特性 8-28.3 單層型陰極 8-48.4 合金型陰極 8-58.5 多層型陰極 8-68.6 半穿透金屬型陰極 8-78.7 對比加強架構 8-88.7.1 圓形偏光架構 8-108.7.2 光學增亮膜 8-128.7.3 內部光學干涉 8-138.7.4 抗反射層 8-158.7.5 整合式黑色矩陣結構 8-16第9章 主動式類比畫素設計 9-19.1 前言 9-19.2 畫素設計設定 9-19.2.1 畫素間距 9-29.2.2 畫素開口率 9-59.2.3 RGB畫素排列架構 9-59.2.4 RGBW畫素排列架構 9-69.3 差異性衰減 9-89.3.1 子畫素配置 9-109.3.2 畫素驅動補償 9-119.3.3 加瑪校正 9-129.4 畫素驅動分類 9-129.4.1 1T簡易型畫素 9-139.5 電壓定義型畫素 9-149.5.1 2T-1C畫素驅動 9-159.5.2 修正型2T-1C畫素驅動 9-169.5.3 3T-1C畫素驅動 9-189.5.4 4T-2C畫素驅動 9-199.6 電流定義型畫素 9-229.6.1 4T-1C電流鏡畫素驅動 9-229.6.2 4T-1C電流複製畫素驅動 9-249.7 畫素補償架構 9-25第10章 主動式數位畫素設計 10-110.1 前言 10-110.2 數位驅動設計 10-210.3 面積比例灰階型 10-210.3.1 畫框權重 10-210.3.1 面積比例設計 10-310.4 訊號時間比例灰階型 10-510.4.1 顯示區間分離法 10-510.4.2 顯示區間分離法畫素 10-710.4.3 同步消除掃描法 10-810.4.4 同步消除掃描法畫素 10-910.5 時間面積混合比例灰階型 10-10第11章 有機發光二極體封裝技術 11-111.1 前言 11-111.2畫素暗點 11-211.2.1 壽命 11-311.2.2 老化機制 11-411.3 封裝規格需求 11-611.4 外蓋封裝 11-711.4.1 外蓋封裝製程 11-811.4.2 外蓋材質 11-1011.4.3 外蓋封口膠 11-1311.4.4 乾燥劑 11-1611.5 單層薄膜封裝 11-1911.5.1 氧化矽膜封裝 11-2311.5.2 氮化矽膜封裝 11-2411.5.2 SiONx單層膜封裝 11-2511.5.3 類鑽碳單層膜封裝 11-2511.5.4 其他單層膜封裝 11-2611.6 多層薄膜封裝 11-2711.6.1 氮化矽/氮化碳多層膜封裝 11-2711.6.2 氮化矽/氧化矽多層膜封裝 11-2811.6.3 混合多層膜封裝 11-2811.6.4 可撓曲封裝 11-29第12章 有機發光二極體技術藍圖 12-112.1 平面顯示技術藍圖 12-112.2 有機發光二極體顯示器的未來 12-512.4 結語 12-8附錄A RPI複晶矽薄膜電晶體模型參數 A-1附錄B RPI非晶矽薄膜電晶體模型參數 B-1